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连续选择电镀的掩膜压板装置

    申请号:200820093019.5

    名称:连续选择的掩膜压板装置

    公开(公告)号:CN201165556

    公开(公告)日:2008.12.17

    主分类号:C25D5/02(2006.01)I

    申请(专利权)人:苏骞

    地址:518000 广东省深圳市福田区福中路天健世纪花园1栋28A

    发明(设计)人:苏骞

    专利机构:深圳市顺天达专利商标代理有限公司

    代理人:郭伟刚;张秋红

    摘要

    本实用新型公开一种连续选择的掩膜压板装置,包括、气缸,其中气缸通过气缸固定板竖直固定在镀槽上,气缸活塞杆下端固定有水平的上掩膜压板,与上掩膜压板对应的镀槽上设有水平的下掩膜压板,在气缸固定板上固定有至少两个气缸,所有气缸相对于上掩膜压板中心对称设置,在气缸固定板上还设有上掩膜压板的导向机构,气缸推动上掩膜压板沿导向机构上下移动。本实用新型的连续选择电镀的掩膜压板装置加压均衡稳定,非电镀区域覆盖严密,电镀质量高。